常规的氯消毒和紫外消毒虽然是再生水处理中保障微生物安全的核心屏障，但它们在应对日益严峻的抗生素抗性基因（ARGs）污染时，暴露出了效率不足的短板。单纯的紫外消毒对ARGs的破坏需要极高的紫外剂量，而氯消毒不仅效率有限，还可能通过筛选作用富集耐氯的抗性细菌，并且其与水中残留有机物反应生成的有毒消毒副产物也是一个不可忽视的风险。紫外/过氧乙酸（UV/PAA）联合工艺，作为一种新型的高级氧化消毒技术，正因其高效和清洁的特性，受到水处理领域的广泛关注。

  本研究采用波长为275nm的紫外发光二极管（UV-LED）和投加低浓度过氧乙酸的联合体系，处理含有高浓度耐氯抗生素抗性细菌（如磺胺耐药的大肠杆菌）的二级出水。实验结果表明，在达到相同细菌灭活率（如4-log去除）的条件下，UV/PAA联合体系所需的紫外剂量远低于单独紫外消毒，且灭活速率显著加快。其协同增效的机理在于，紫外光不仅直接损伤细菌的DNA和细胞膜，同时还能活化过氧乙酸产生羟基自由基和乙酰氧自由基等活性物种。这些自由基对细菌的细胞壁、细胞膜及胞内蛋白质和酶等生命大分子造成广谱的氧化损伤，使得细菌的防御和修复系统瘫痪，从而极大增强了对细菌的灭活效力。

  更为重要的是，对于细胞裂解释放出的游离胞外抗性基因片段，传统的紫外消毒对其降解效率非常低。而UV/PAA体系产生的羟基自由基，则能够高效地攻击DNA骨架的糖-磷酸键和嘌呤、嘧啶碱基，将长链的抗性基因片段迅速断裂为无生物转化活性的小碎片，从而从根本上削减了ARGs在环境中水平转移和传播扩散的风险。此外，经过UV/PAA深度消毒后，细菌的复活和再生长潜力被极大抑制。该研究证实，UV/PAA技术是保障再生水回用微生物化学安全性、有效遏制抗生素耐药性环境传播的先进消毒技术。

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